Корпорация IBM выпустила набор инструментов, предназначенный для проектирования чипов с учетом 22-нм производственных норм, которые будут внедрены в 2011 году. Существующие 45-нм чипы используют литографический метод, который не совместим с 22-нм техпроцессом и не может быть далее улучшен для передачи столь мелких деталей.

По словам вице-президента IBM центра полупроводниковых исследований и разработки Гари Паттона (Gary Patton), новый метод производства получил название «Вычислительное масштабирование (Computation Scaling)» и позволит создавать сложные, производительные и энергоэффективные полупроводниковые чипы с 22-нм точностью и выше. Традиционное масштабирование построено на возможностях оптики, а вычислительное масштабирование (CS) от IBM использует передовые математические технологии, использующие программные инструменты и высокопроизводительные процессорные системы. Эта технология также значительно упростит процесс проектирования чипов.

IBM разработала программные инструменты, которые позволяют разработчикам создавать любые чипы, от процессоров, до памяти и чипов обработки цифровых сигналов и делать это практически без учета особенностей производства. Затем, инструменты переводят и оптимизируют логическую модель в тот вид, который необходим для производственного процесса.

На своей фабрике в штате Нью-Йорк IBM уже удалось создать по 22-техпроцессу с использованием 300-мм кремниевых пластин стандартную ячейку SRAM-памяти, которая состоит из 6 транзисторов. Площадь ячейки, которая в полупроводниковой индустрии считается основой для создания более сложных микросхем, составляет 0,1 мкм², для сравнения при 45-нм нормах площадь составляет 0,346 мкм². IBM также обещает показать рабочие образец чипа, транзисторы которого созданы с использованием металлических затворов с высоким значением диэлектрических свойств.